跳转到主要内容

LUC-INSIGHT™ OCT 成像

1–10 微米分辨率的非接触断层成像,把实验室级 OCT 带到产线

μm

透视表面之下

微米级分辨率

看到其他技术无法看到的细节

实时成像

实时 3D 可视化

非接触式

保持样品完整性

深度穿透

成像深度可达数毫米

技术规格

性能指标

分辨率1–10 微米
成像原理光学相干断层扫描(OCT)
特性非接触、无损、无电离辐射

应用场景

半导体制造

晶圆检测和缺陷分析

医学成像

眼科、皮肤科和心脏病学

工业检测

涂层分析和质量控制

看见表面之下

外观检测只能看到表面。而真正致命的缺陷往往藏在里面:涂层下的空隙、电池极片间的异物、复合材料内部的分层。等它们显现到表面,损失已经发生。

LUC-INSIGHT™ 将光学相干断层扫描(OCT)从实验室带到生产线:以 1–10 微米分辨率对材料内部做非接触三维成像,无电离辐射,无需制样。

核心能力

  • 分辨率:1–10 微米
  • 成像方式:非接触、无损、无电离辐射
  • 输出:材料内部的三维断层数据

应用场景

动力电池制造

极片涂布均匀性、隔膜完整性、封装内部异物——这些决定电池安全性的因素都在表面之下。断层成像让抽检之外的在线检查成为可能。

半导体与先进封装

对多层结构做无损检查:空洞、对位偏差、层间厚度。不接触晶圆,不引入电离辐射。

复合材料

分层与孔隙是复合材料的典型内部缺陷,超声难以分辨微米尺度的细节。OCT 在浅层深度内提供高一个数量级的分辨率。

与常见无损检测方案的差异

原理特点
LUC-INSIGHT™光学相干断层扫描微米级分辨率,非接触,无电离辐射,可在线
超声检测声波反射穿透深,但分辨率粗得多,常需耦合介质
X 射线 CT电离辐射成像穿透强,但设备昂贵、速度慢、有辐射管控要求

联系我们

赋能您的智能系统

专业团队为您提供全方位的技术支持和定制化解决方案。